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Modelagem Computacional de Reatores CVD para Filmes de Diamante
Uma abordagem interdisciplinar da Engenharia
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220x150x8 mm
Beschreibung:
Graduado em Física pela Universidad de Costa Rica - UCR.Doutor em engenharia elétrica pela Universidade Estadual de Campinas - UNICAMPAtualmente é professor do IEDS da Universidade da Integração Internacional da Lusofonia Afro-Brasileira (UNILAB). È o atual coordenador do Mestrado em Sociobiodiversidade e Tecnologias Sustentáveis - MASTS.
Os processos de deposição química a partir da fase vapor (CVD) do diamante são extremamente complexos. Devido a essa complexidade o desenvolvimento de reatores de CVD requer a utilização de modelagens computacionais adequados. Neste trabalho se encontra uma modelagem sofisticada de um reator CVD para crescimento de filmes de diamante e se desenvolve um protótipo de simulador computacional para ajudar na resolução das equações diferenciais encontradas. Também há dados sobre as espécies químicas envolvidas. Finalmente apresenta-se uma série de resultados de simulações.